更新日:2026.07.14
2026年7月6日、大学院工学研究院基礎科学研究系の美藤正樹教授らの研究グループによる発表論文が、米国応用物理学会誌「Journal of Applied Physics」にオンライン掲載され、優れた論文として「Editor's Picks paper」に選出されました。
金属から絶縁体へ、ある温度を境に電気伝導度が急激に変化する現象は「金属絶縁体転移」と呼ばれ、遷移金属酸化物の一種であるV₂O₃は、この金属絶縁体転移を示す代表的な物質として知られています。
本研究では、高圧下で試料にねじりを加えて結晶中にせん断ひずみを注入することで、高温相と低温相が共存する温度域を約120Kにわたって拡大できることを明らかにしました。これは、せん断ひずみの注入によって電気伝導度の温度変化を広い範囲で制御できる可能性を示す成果です。電子状態や電気伝導特性を調整する新たな手法として、今後、新しい電子デバイス材料や機能性材料の開発につながることが期待されます。
【受賞対象】
| 受賞者 | 美藤 正樹 (大学院工学研究院 基礎科学研究系 教授) ほか |
| 発表題目 | Shear strain effects on metal–insulator transition of vanadium oxide V₂O₃ |
| 雑 誌 | 「Journal of Applied Physics」140, 015901 (2026) |
| D O I | 10.1063/5.0332820 |
- 掲載された論文はこちら(Journal of Applied Physics)
遷移金属酸化物V₂O₃における金属絶縁体転移のイメージ図と強ひずみ誘起による二相共存温度領域拡大の概略
